沈阳高新区企业拓荆科技今日科创板上市 打造半导体制造设备领军企业
来源：高新院 achie.org 日期：2022-04-20 点击：次
4月20日，拓荆科技股份有限公司（以下简称“拓荆科技”）首次公开发行股票并在上海证券交易所科创板上市。拓荆科技成为继芯源微电子、成大生物后，沈阳市第三家科创板上市公司，也是继何氏眼科之后，沈阳市今年第二家上市公司。
拓荆科技成立于2010年，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备3个产品系列，是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商，也是国内主要的量产型ALD设备供应商。
拓荆科技是国内半导体设备行业重要的领军企业之一，3次获得中国半导体行业协会颁发的“中国半导体设备五强企业”称号，产品已成功应用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等行业领先集成电路制造企业生产线，产品技术参数已达到国际同类设备水平，并已展开10nm（纳米）及以下制程产品验证测试。据悉，拓荆科技将借登陆科创板重要契机，进一步提升科技研发能力，提高产品性能和技术水平，不断做强主业，将公司打造成半导体制造薄膜沉积设备领军企业。
